立方体shadowmapping算法如何工作？
我在网上搜索，但我找不到合适的描述。 我想在OpenGL ES 2.0中执行以下操作：
在一个简单的场景中，点光源会四处移动，并且我想渲染穿孔阴影。 为此，我必须使用多维数据集shadowmap。
我了解基本算法，即：
1.）从光线的POV渲染6倍的场景。 将深度值存储在立方体贴图适当的面中。 （如果光看着+ X，那么立方体面+ X，如果看-X然后看立方体面-X等等）
2.）从相机的POV渲染场景并使用存储在立方体贴图中的深度值进行比较：
如果深度<与光线的距离，则片段处于阴影中...
我有一些问题，也有一些想法。 我只想得到一些关于我的想法的确认或更正。
我的问题：
我如何从cubemap中获取？ 我知道我必须为此使用vec3，但我如何计算这个fetcher矢量？ 我只有一个想法：使用vertexPosition - lightPosition向量，但我不确定这是否好。 :(
另一个问题是：距光线的距离：它在世界坐标中，所以它只是一个浮点值...深度值在[0.0,1.0]范围内...
如何在[0.0，1.0]范围内创建距离？ 我的想法是，我将所有6个光源的视图矩阵和光源的投影矩阵也传递给顶点着色器。 我计算顶点的位置2次：一个用于摄影机的MVP（正常），另一个用于光照的MVP（用于阴影计算，使用适当的视图矩阵）。 这样，我将再次得到片段在光线POV中的位置，并且由于w-除法，它的z值可以用作[0.0，1.0]中偏离光线后的距离，所以我可以将它与从我的立方体阴影地图...我是对的吗？
请帮帮我。 提前致谢。
编辑：
好的，阴影立方体贴图正在开始工作。 但是，我目前正在尝试修复一些错误。
起初，阴影是“愚蠢的”。 不是他们应该去的地方，或者完全“愚蠢”的形状阴影呈现出来......
设置是：摄像头在（0,4.9,0），看（0,0,0），向上（0,1,0）。 对光线的看法：
+ X：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX + 1，eyeY，eyeZ，0,1,0，矩阵）; //自己的实现，它和gluLookAt一样
-X：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX -1，eyeY，eyeZ，0,1,0，矩阵）;
+ Y：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX，eyeY + 1，eyeZ，-1,0,0，矩阵）;
等等...
这不起作用。 好吧，但是我对它进行了动画处理，并且看到假影随着光源一起移动：光源向上移动，影子也移动了，影子也移动了下来，影子也在...
（光源在（0,0,0）并在Y轴上移动，箱子离开光源。）
因此为了测试，我在片段着色器中做了以下操作：
vec3 fetcher = v_posWorld.xyz - u_light_pos;
fetcher.y * = -1.0;
这个想法是因为我认为可能问题是，在纹理上渲染时，渲染图像会呈现颠倒状态。 这个测试工作，但当然只有-X和+ X面临...
所以我评论了“fetcher.y * = -1.0;” 线，并改变了光的意见：
+ X：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX + 1，eyeY，eyeZ，0，-1,0，matrix）;
-X：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX -1，eyeY，eyeZ，0，-1,0，matrix）;
+ Y：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX，eyeY + 1，eyeZ，0,0，-1，matrix）;
-Y：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX，eyeY-1，eyeZ，0,0,1，matrix）;
+ Z：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX，eyeY，eyeZ + 1，0，-1,0，矩阵）;
-Z：LookAt（eyeX，eyeY，eyeZ，eyeX，eyeY，eyeZ -1,0，-1,0，矩阵）;
有用！ 几乎，因为+ Y和-Y的视图设置没有按照我的预期工作:(经过一段时间后，我将相机的位置改为（0，-4.9，0），并且所有工作都变得很糟糕：阴影再次变得“愚蠢”。
我在这里迷路了。 我不知道我的算法失败。 难道，为了渲染纹理，我应该使用左侧的规则视图（我的意思是生成视图矩阵的时候）...？
无论如何，我继续工作，但也许我不太了解立方体贴图。 :(
（并且对于长时间的编辑感到抱歉）
如你所想的那样使用光到顶点矢量应该是用作纹理坐标的正确矢量。
您也可以将深度纹理中的线性深度存储到深度纹理中，只需将顶点与光源的距离（除以某些已知的最大光线影响距离以将其转换为[0,1]）写入gl_FragDepth的前6通过，而不是顶点的预测深度。 这样，您就可以在深度比较中使用顶点与灯光的距离，而无需将任何东西投影到光照空间中。 这样你就不需要跟踪6个不同的矩阵，并选择正确的用于每个顶点或片段。
编辑：看来你不能写入到ES中的gl_FragDepth ，这使得渲染你自己的深度有点复杂。 只是渲染成一个普通的纹理不会这样，因为每个通道的8位精度在实践中太小了。
但是，您应该能够通过将顶点的z分量（转换为[-1,1]）与点的w分量相乘来存储顶点到光线的距离，从而使顶点着色器的深度线性化，除以w并由光栅化器转换为[0,1]以获得片段的深度：
uniform mat4 lightModelView;
uniform mat4 lightProjection;
unfiorm float maxLightDistance;
attribute vec4 vertex;
void main()
{
vec4 lightSpaceVertex = lightModelView * vertex;
float lightDistance = length(lightSpaceVertex.xyz) / maxLightDistance;
gl_Position = lightProjection * lightSpaceVertex;
gl_Position.z = (2.0*lightDistance-1.0) * gl_Position.w;
}
通过相应地改变光线的投影矩阵可以优化它，但是这个代码（与一个简单的直通片段着色器一起）应该将线性光到顶点距离存储到深度缓冲区中，如果我不在这里完全错误的轨道。 它只是将顶点的z乘以它的w，并且因此应该抵消透视分割步骤，这将导致非线性深度值（当然，它也抵消从[-1,1]到[0,1]的转换） ）。
编辑：根据你的新问题：首先，我希望你的灯光位于（eyeX，eyeY，eyeZ），因为阴影贴图生成的相机必须位于灯的位置，当然。 如果（eyeX，eyeY，eyeZ）实际上是（普通）场景摄像机的位置，那么这当然是错误的，您应该使用（lightX，lightY，lightZ）来代替。
接下来，您当然应该使用正好90度的FoV（视场）作为光线的视图，所以应该以某种方式生成投影矩阵：
glFrustum(-near, near, -near, near, near, far);
或这个：
gluPerspective(90, 1, near, far);